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下面属于等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制膜的工艺参数有:( )。
A、反应室尺寸
B、反应压力
C、射频功率
D、衬底温度
发布时间:
2023-08-01 23:06:36
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下面属于等离子体增强化学气相沉积(PECVD)制膜的工艺参数有:( )。
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