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将源材料各组成成分放入多个坩埚同时加热蒸发来淀积某种合金薄膜的是( )方法。
A、单源蒸发
B、多源顺次蒸发
C、单源同时蒸发
D、多源同时蒸发
发布时间:
2023-09-27 10:47:05
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1.
将源材料各组成成分放入多个坩埚同时加热蒸发来淀积某种合金薄膜的是( )方法。
2.
采用真空蒸镀工艺淀积薄膜,应从( )入手来确定具体工艺参数和工艺方法。
3.
从整个蒸镀过程来看,真空室内的( )是所淀积薄膜纯度、致密度高低的关键。
4.
将物品放入蒸箱内的消毒方法是( )。
5.
薄膜的致密件不是由淀积过程中的衬底工艺温度决定的。
6.
偏压溅射是改善溅射淀积形成的薄膜组织及性能的最常用,而且也是最有效的方法之一。
7.
影响化学气相淀积速率的因素除了温度、反应剂浓度之外,化学气相淀积方法、淀积设备种类和反应室结构类型等也对淀积速率有很大影响。
8.
APCVD工艺主要用于( )薄膜的制备.通常采用可以连续供片的设备进行淀积。
9.
严禁将易燃易爆等危险化学品放入微波炉中加热
10.
薄膜蒸发有哪两种方式?
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